測量原理
該儀器系列采用符合EN ISO 2177的庫侖法。金屬涂層在受控條件下通過電流從金屬或非金屬基底上去除 - 實際上是電鍍工藝的反映。 施加的電流與要去掉的金屬質量成正比。 如果脫鍍電流和脫鍍面積保持恒定，則剝離時間和涂層厚度之間的結果是明顯的相關性。

使用與電解微型浴相當?shù)臏y量池來去除涂層。 測量區(qū)域由放置在電池上的塑料墊圈限定。 用于電解的電解質被配制用于各種涂層材料，使得僅在施加電流時才發(fā)生剝蝕。 脫模過程由COULOSCOPE®儀器的電子元件控制。 泵移動測量池中的液體電解質，允許新鮮的電解質存在于脫皮區(qū)域。

應用：
庫侖法是涂層厚度測量的zui簡單方法之一。 適用于電鍍行業(yè)的生產(chǎn)監(jiān)控和成品檢驗。 投資相對較小，可以測量在典型應用中發(fā)生的許多涂層。 除了X射線熒光法，庫侖法是鋼板或塑料基板（ABS）等多層涂層系統(tǒng)如Cr / Ni / Cu快速涂層厚度測量的其他方法。 當然，可以使用COULOSCOPE®系列測量單一和雙重涂層，例如鋼上的鋅或銀上的鎳上的錫。 COULOSCOPE®儀器系列可保證在0.05 - 40μm（0.002 - 1.6 mils）范圍內(nèi)的金屬涂層的測量。

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測量原理：
步驟測試（同時厚度和電化學電位測定）是長時間標準化的測量方法，以同時確定單獨的涂層厚度和鎳涂層體系的各個涂層之間的電化學電位差。涂層厚度測量根據(jù)

第3頁所述的庫侖法進行。使用涂有AgCl的銀參比電極捕獲電位分布。電位曲線顯示在顯示屏上，單個涂層厚度和電位差可以通過圖上相應的光標定位來確定。

為了用潛在的測量方法獲得可比較的測量，參考電極必須始終與樣品的距離相同。這是使用特殊的測量單元*完成的。銀參考電極被設計為錐形環(huán)形電極并形成測量單元的下殼體部件，其中僅放置必要的測量單元墊圈。測量單元的這種設計確保了參考電極和樣品之間始終均勻的距離。

應用：
多個鎳涂層的質量控制需要測量裝置，可以在涂層程序之后立即檢查厚度和電化學電位。 COULOSCOPE®CMS STEP測量系統(tǒng)由于其簡單的操作和參考電極的簡單操作，適用于電鍍廠惡劣環(huán)境中的應用，為此已開發(fā)出來。電解鍍鎳用于裝飾性防腐蝕和改善機械表面性能，例如硬度。特別是在汽車行業(yè)，鍍鎳部件必須滿足腐蝕行為的高要求。單鎳涂層不適合此目的。因此，非常復雜的涂層系統(tǒng)正在開發(fā)中，其由兩個，三個或甚至四個不同的鎳涂層以及鉻或銅的附加涂層組成。

使用STEP-View進行評估和數(shù)據(jù)存儲
PC軟件程序STEP-View可用于保存并方便地檢測測量的潛在地塊。作為COULOSCOPE®CMS STEP標準設備的一部分運輸。不過，也可以直接在儀器上進行評估。在STEP-View程序中，可以通過單擊鼠標按鈕從儀器讀取測量的電位分布。涂層厚度和電位差異的確定發(fā)生在兩個單獨的圖中。通過在圖的相關部分定位zui多5個標記可以輕松確定有趣的值。數(shù)據(jù)可以導出到Excel電子表格，圖形可以流行的圖形格式保存，并且可以設置大量的printform模板。

系統(tǒng)總覽：
為了建立功能測量系統(tǒng)，COULOSCOPE®CMS或COULOSCOPE®CMS STEP需要帶有測量單元（STEP測量單元）的測量臺。
不同的測量臺型號包括測量電池可用于各種測量應用。

一般特征：
•大尺寸顯示測量值
•簡單選擇脫皮率和測試面積大小
•可用的測試區(qū)域尺寸：ø3.2（128），2.2（88）和1.5（60）mm（密耳）。 支架V18附加0.6毫米（24毫米）
•剝離率可調0.1至50μm/ min
•支架V18：通過泵控制電池的充填和排空。 當電解質飽和時，進行多次測量，一次充電，并發(fā)出警告
•液晶顯示屏上電池電壓的圖形顯示
•縮放功能可放大有趣的繪圖部分
•PC和打印機連接的接口
•用于單元電壓的模擬圖表記錄器的輸出
•可選擇的測量單位：μm或mils
•可選語言：德語，英語，法語，意大利語，西班牙語
•關閉儀器時存儲所有應用參數(shù)

COULOSCOPE®CMS版本的特點
•以表格或圖形格式評估測量數(shù)據(jù)
•關閉儀器時的存儲測量數(shù)據(jù)
•自動或手動測量關閉
 

版本COULOSCOPE®CMS STEP的特點
•可調放電電流
•使用光標確定涂層厚度和電位差
•用于調節(jié)銀參比電極（產(chǎn)生所需AgCl涂層）的自動測量順序
•手動測量關閉

COULOSCOPE®儀器的標準功能：
•73個用于大多數(shù)金屬涂層的標準測量應用
•14個存儲的標準測量應用，用于電線上的涂層厚度測量
•2個用于STEP測試測量的儲存標準測量應用（僅適用于儀器型號CMS STEP）。

如果標準測量應用程序不適用于您的特定材料組合，則可以定義特殊測量應用程序，特別適用于您的特定情況。

校準
在校準期間，確定校正因子（校準因子）。由于電池墊片直徑的制造公差以及涂層材料的涂層材料密度或合金組成的變化，可能需要該校正因子。對于STEP-Test測量，可以輸入一個因素。
應用
應用是存儲測量應用特定參數(shù)（例如標準或特殊測量應用，校準因子，測量單位等）和測量數(shù)據(jù)的存儲區(qū)域。應用程序可以復制，編輯和刪除。

標準測量應用和電解質
共有89種標準測量應用可用于各種應用。下表列出了可能的測量應用的選擇。對于多涂層系統(tǒng)，待測涂層下方的相應涂層被認為是基材。

Optional Accessories可選附件：

可提供廣泛的附件，用于測量，存儲儀器和定位測試樣本。

測量臺V18具有各種樣品支撐臂，球形接頭樣品支撐帶可自由移動的支撐板。 還有一個也可以容納三個100ml實驗室瓶的測量池支架.

廣泛應用的標準支架V18和支架V27用于測量導線上涂層的厚度

校準
校準過程建立了一個校正因子，考慮到塑料密封件的實際直徑與參考值的偏差，合金組成的偏差和涂層材料密度的波動等因素。

使用5 x 5個單獨測量的測試區(qū)域校準測量系統(tǒng)的標準

夾鉗試樣副 也適合安裝在測量臺V18和V24的支撐板上

系統(tǒng)概述功能測量站包括COULOSCOPE®CMS2或CMS2 STEP，以及帶有測量單元（例如STEP測量單元）的支撐架。 各種支架設計，包括測量單元，可用于滿足各種應用。